据媒体报导,5月13日韩国产业通商资源部(The Ministry of Trade, Industry and Energy,MOTIE)对外宣布,全球光刻机龙头大厂阿斯麦(ASML)设计赴韩国打造EUV 再制造(remanufacturing)厂及培训中央。

据先容,ASML未来4年将在韩国投资2,400亿韩元(2.1亿美元),于京畿道华都会打造一座EUV光刻装备再制造厂以及一家培训中央。所谓再制造,是指通过需要的拆卸、检验和零部件替换等,将废旧产物恢复如新的历程。

想要打造先进制程的半导体生产线,一定要想法取得要害半导体装备。应用质料、ASML、泛林半导体、东京电子是全球前四泰半导体装备厂商,总体的市占率高达60%左右。问题是,这些半导体装备厂每年只能生产一定数目的机台,交货时间也对照长。

稀奇是对于7nm以下先进制程所必须的EUV光刻机来说,现在ASML是全球唯逐一家能够生产EUV光刻机的半导体装备供应商。然则现在ASML的EUV光刻机产能十分有限,一年只能生产30台左右EUV光刻机。

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据媒体报道称,现在台积电已取得了50台EUV装备,而三星仅有10台。

此次ASML设计在韩国新建的EUV再制厂,主要用途就是为韩国当地运行的EUV光刻机维护、升级提供助力。

据领会,韩国MOTIE及京畿道 *** 将针对ASML的授权、扩张当地营业事宜提供协助。而上述设施预计2025年底前完工,未来将在韩国聘用跨越??300名专业人才。

另外值得一提的是,报道还指出,现在美国半导体装备大厂泛林半导体(Lam Research Corp.)将扩大对韩国的投资南。报道引述业界新闻指出,泛林半导体已将韩国的生产目的提高一倍,正在寻找合适的地址确立新厂,以便扩充产能。

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